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SEMICONDUCTOR 应用

半导体制造对塑料的金属离子溶出 (ppb 级), 颗粒脱落, 静电耗散要求极高。本页推荐湿法刻蚀、CMP、晶圆传输、清洗四大场景的材料。

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📋 推荐材料 (按应用分区)

应用材料关键要求主流牌号
晶圆载具 (wafer carrier)PEEK+CF30ESD 10³-10⁵ Ω·cm, 高纯威格斯 450CA30
晶圆载具 (CMP)PEEK+CF30耐浆料腐蚀, 抗静电威格斯 450CA30 / 苏威 KetaSpire
湿法刻蚀化学品输送PVDF / PFA金属离子 <1ppb, 耐 HF/HNO3阿科玛 Kynar HSV / 杜邦 PFA 440HP
高纯化学品管道PFA / PTFE耐强酸, 高纯杜邦 Teflon PFA 440HP
清洗槽 / 容器PP (高纯级)低析出, 耐 100°C利安德Basell Pro-fax 6323
CMP 抛光垫窗口PEEK耐浆料, 耐磨威格斯 150G
真空吸盘PEEK+CFESD, 耐磨, 真空密封威格斯 450CA30
离子注入部件PBI / PEEK耐高温, 真空出气率低PBI Performance Celazole S26

🎯 典型应用

💡 加工建议

✅ 认证清单

SEMI F47 / SEMI E12 / ISO 9001 / RoHS / REACH / SEMATECH / 超纯水 18.2 MΩ·cm 冲洗

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